抗反射涂层（ARC）是一种涂覆在光刻胶底部或顶部的功能性薄膜，主要由聚合物树脂、染料、热酸发生剂和溶剂等组成。ARC 按材料体系可分为 SiARC、BARC 和 TARC。根据硅抗反射涂层 (SiARC)的产品类型，划分为：ArF干式SiARC、 ArF浸润式SiARC。根据硅抗反射涂层 (SiARC)的下游应用领域，划分为：存储芯片、 逻辑芯片、 其他。
其中，含硅抗反射涂层（SiARC）是一类基于硅材料的光学功能涂层。它通过在硅基底表面构建特定结构或薄膜，利用光学干涉原理来降低光反射损耗，从而提升光透过率或光子吸收效率。其核心目标是最大程度降低硅基底表面的反射率，因此被广泛应用于存储器（Memory）和逻辑芯片（Logic）领域。
2024年，全球含硅抗反射涂层（SiARC）产量在6.56万升，均价为1492美元/升。
先进制程驱动，高性能SiARC需求激增
根据LP Information最新（2025年出版）数据显示，全球硅抗反射涂层（SiARC）市场保持稳步增长，半导体和光伏领域是主要拉动力。伴随EUV光刻技术的商用化和晶圆厂对光学良率控制的严格要求，SiARC在掩膜层工艺中的应用份额持续提升。报告重点关注全球硅抗反射涂层 (SiARC)市场的主要企业，包括：Nissan Chemical Industries、 JSR、 Honeywell、 信越化学、 Dupont、 湃邦等均加大对高纯度、有机-无机混合SiARC材料的研发投入。高折射率可调配方与低应力薄膜设计正成为行业主流方向。
技术迭代加速，工艺协同与材料创新并行
SiARC的技术进步正向"材料-工艺-设备"一体化协同演进。企业通过引入高密度等离子体沉积、原子层沉积（ALD）及分子层沉积（MLD）等先进工艺，显著改善膜层均匀性与附着力。新一代SiARC采用含氟硅烷与有机前驱体协同体系，具备优异的光吸收特性与低残留特征，适用于极紫外光（EUV）曝光条件。同时，部分厂商在年报中披露，正在开发具备自修复和可再利用特性的SiARC材料，以延长设备使用寿命并降低成本。AI辅助配方设计和实时工艺监测技术的应用，使得生产一致性与良率控制迈上新台阶。
中国产业链突破，供应格局加速重构
券商与政府报告显示，中国正加快SiARC材料的本地化进程。受益于集成电路产业链国产替代政策支持，国内涂层材料企业在高纯前驱体配方控制、气相合成工艺及洁净制程装备方面取得显著进展。领先厂商已进入晶圆代工厂、封测厂及光伏组件厂供应体系，实现从实验室研发到规模量产的技术跨越。随着《国家集成电路产业发展推进纲要》和"十四五"新材料规划的实施，SiARC正成为国内半导体材料自立体系中的战略环节。
总体来看，硅抗反射涂层（SiARC）行业正处于先进制程驱动与材料创新融合的关键阶段。它不仅是高端芯片制造的隐形支撑，更是未来光学与光电产业链高质量发展的核心材料力量。
文章摘取路亿市场策略（LP Information）出版的《全球硅抗反射涂层 (SiARC)市场增长趋势2025-2031》，本报告将深入分析当前美国关税政策及各国的多样化应对措施，评估其对市场竞争结构、区域经济表现和供应链韧性的影响。
路亿市场策略（LP Information）2025年11月发布的【全球硅抗反射涂层 (SiARC)增长趋势2025-2031】，报告揭示了 硅抗反射涂层 (SiARC) 行业当前的生产力状态，并通过详尽的数据分析和市场调研，揭示了企业面临的关键挑战和改进潜力。报告不仅深入探讨了 硅抗反射涂层 (SiARC) 国内外市场动态和需求变化，更创新性地构建了一个全面、系统且具有前瞻性的新生产力战略框架，旨在推动 硅抗反射涂层 (SiARC) 行业的持续发展。
2024年全球硅抗反射涂层 (SiARC)市场规模大约为95.80百万美元，预计2031年达到170百万美元，2025-2031期间年复合增长率（CAGR）为8.3%。
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